中国感光学会第三届光刻材料与技术讨论会第一轮会议通知

发布时间：2025年10月10日来源：中国感光学会

中国感光学会第三届光刻材料与技术讨论会定于2025年11月21-23日（21日报到）在北京召开，此次会议旨在汇集国内外相关领域的专家学者和技术人员，共同探讨光刻材料与技术的最新进展和发展趋势，加强在光刻材料与技术研究同应用领域的学术交流，促进我国相关材料和技术的发展。

会议详情如下：

组织单位：中国感光学会光刻材料与技术专业委员会

会议顾问：洪啸吟、陈宝钦、彭孝军

会议主席：杨国强、韦亚一、孟永钢、康劲、姚树歆、李嫕

征文范围：

1、光刻过程中的材料、工艺和应用研究；

2、微纳图案化相关材料和技术研究；

3、半导体产业中使用的光刻材料、电子化学品等相关技术和研究；

4、光刻相关的掩模检测、计量技术，计算光刻等；

5、光刻新技术与新材料相关的基础科学和前沿研究；

6、其他与光刻相关的技术和材料研究。

会议时间：2025年11月21-23日（21日报到）

会议地点：北京国际会议中心（北京市朝阳区北辰东路8号）

会议住宿：北京五洲大酒店（北京市朝阳区北辰东路8号）

会议注册：

小程序注册或者现场注册

注册费用：

付款方式：

（1）扫码转账（包含开票信息）

（2）银行转账

单位名称：中国感光学会

开户行名称：中国农业银行北京科院南路支行

开户行账号：11250101040014444

汇款时请备注：光刻材料+姓名+单位

会议论文摘要模板：见附件

会议论文摘要：邮件发送至学术秘书邮箱，提交截止日期：2025年11月3日。

学术秘书（联系人）：

郭旭东，电话：13811700509，邮箱：scoopguo@iccas.ac.cn

于天君，电话：13810801363，邮箱：tianjun_yu@mail.ipc.ac.cn

会议日程另行通知。

中国感光学会光刻材料与技术专业委员会

2025年10月9日

通知通告